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Nanotest TIFAS IR熱成像法失效分析儀

簡(jiǎn)要描述：Nanotest是柏林熱管理材料表征和電子器件可靠性分析聯(lián)合實(shí)驗室的一員，該實(shí)驗室與開(kāi)姆尼茨工業(yè)大學(xué)、勃蘭登堡工業(yè)大學(xué)和弗勞恩霍夫協(xié)會(huì )電子納米系統研究所齊名，聚焦于熱管理材料表征和電子器件可靠性分析領(lǐng)域，是歐洲相關(guān)領(lǐng)域主要的儀器供應商之一。
Nanotest TIFAS IR熱成像法失效分析儀

  • 產(chǎn)品型號：TIFAS-IR
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)：其他
  • 更新時(shí)間：2023-02-20
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量：850
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詳細介紹

Nanotest  TIFAS IR熱成像法失效分析儀

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     當熱量從器件發(fā)熱點(diǎn)（源）向環(huán)境中傳遞過(guò)程中，偶爾會(huì )遇到一些熱的阻礙物，通常這些熱阻礙物會(huì )非常嚴重的影響器件的可靠性。通過(guò)直接觀(guān)察熱的產(chǎn)生和其傳遞的路徑是發(fā)現這些缺陷癥狀的有效方法。

        TIFAS IR是一個(gè)高度集成的桌面型紅外熱成像法失效分析儀，可應用于幾乎所有材料的失效分析。通過(guò)觀(guān)察電子器件、系統、復合物、多層聚合物或燒結零配件的全波段光譜來(lái)判斷其綜合結構，如雜質(zhì)、缺陷以及形貌等。


技術(shù)參數：

測試時(shí)間：1-10 s

IR相機像素：382*288px (可提供更寬范圍)

觀(guān)測區域：95 mm x 123 mm(可提供更寬范圍)

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